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Macchina per rivestimento a polverizzazione

Rivestimento per rivestimento sputtering DC o RF con ioni magnetron ad alto vuoto per la preparazione dei campioni SEM

Rivestimento per rivestimento sputtering DC o RF con ioni magnetron ad alto vuoto per la preparazione dei campioni SEM

Sales Manager: Gia

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  • Articolo n.:

    TMAX-650MH
  • Pagamento:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • Porto di spedizione:

    Xiamen Port
  • Tempi di consegna:

    5 Days
  • :

    CE, IOS, ROHS, SGS, UL Certificate
Dettagli del prodotto

Rivestitore di rivestimento Sputter DC o RF con ioni magnetron ad alto vuoto per la preparazione dei campioni SEM



Introduzione

Il rivestimento a polverizzazione ionica con magnetron sottovuoto alto è ideale e progettato per la scienza dei materiali e la preparazione dei campioni. È ampiamente utilizzato nella maggior parte delle università e degli istituti di ricerca scientifica di scienza e ingegneria dei materiali per rivestire metalli, ceramica, semiconduttori, isolanti o altri tipi di preparazione del materiale della membrana.

Il rivestimento per sputtering ionico magnetron ad alto vuoto fornisce l'ambiente di sputtering più stabile e raggiunge le condizioni sperimentali di base dello sputtering magnetron in un periodo di tempo molto breve. Fornisce due tipi di opzioni di alimentazione DC/RF che consentono lo sputtering di sostanze conduttive o non conduttive sul campione e migliorano le prestazioni di deposizione fisica da vapore (PVD). È eccellente anche per il trattamento e il rivestimento delle superfici. È facile da usare e anche facile da usare.

Pompa per vuoto e refrigeratore inclusi.


Parametro

Vacuum pump set

(Oil richiesto) rotary vacuum pump+(oil gratuito) turbo moleculan pump set

Rotativo ppompaggio svelocità

50 Hz: 16 m³/h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2m³/h (5,2 L/s)

Molecolare ppompaggio spipì

300 l/s

Vuoto llimite

5x10-5Pa

Lavoro ppressione

0,5-5 Pa

Aspirazione time

10 minuti(10-3Pa)

Vuoto mdimensione

Campo di misura dall'atmosfera a 1*10-6Pa

Controllo gas

Gas fbasso cregolatore

Camera dimensionedimensione

Ï260*200mm (altezza) metale

Magnetron tdestinazione sfonte

Dimensione target Ï 50*3mm(Cu)/tsorgente target: weak mmagnetico ssostanza /mmateriali

Operazione mmetodo

Manuale di istruzionil

Peso/dimensionedimensione

100 kg/610 mm di lunghezza x 420 mm di larghezza x 490 mm di altezza

Alimentazione salimentazione

CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz

Potenza cconsumo

<3000W

Raffreddamento mmetodo

Aria cooling(pump)+ water cooling(sputter tobiettivo)

Garanzia

Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vitat


Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater

Tmax CE

TMAX Partner

CVD furnace


tube furnace


muffle furnace



1 Imballaggio standard esportato: protezione anticollisione interna, imballaggio esterno in scatola di legno per esportazione.

2 Spedizione espressa, aerea, marittima in base alle esigenze dei clienti per trovare il modo più adatto.

3 Responsabile del danno durante il processo di spedizione, cambierà gratuitamente la parte danneggiata.



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