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Articolo n.:
TMAX-650MH:
CE CertifiedRivestitore di rivestimento con magnetron ionico ad alto vuoto DC o RF utilizzato per realizzare celle solari in perovskite
Introduzione
L'alto vuoto Il rivestimento a sputtering ionico Magnetron è ideale e progettato per la scienza dei materiali e la preparazione dei campioni. È ampiamente utilizzato nella maggior parte delle università e degli istituti di ricerca scientifica di scienza e ingegneria dei materiali per rivestire metalli, ceramica, semiconduttori, isolanti o altri tipi di preparazione del materiale della membrana.
Il rivestimento per sputtering ionico magnetron ad alto vuoto fornisce l'ambiente di sputtering più stabile e raggiunge le condizioni sperimentali di base dello sputtering magnetron in un periodo di tempo molto breve. Fornisce due tipi di opzioni di alimentazione DC/RF che consentono lo sputtering di sostanze conduttive o non conduttive sul campione e migliorano le prestazioni di deposizione fisica da vapore (PVD). È eccellente anche per il trattamento e il rivestimento delle superfici. È facile da usare e anche facile da usare.
Pompa per vuoto e refrigeratore inclusi.
Parametro
Vacuum pump set |
(Oil richiesto) rotary vacuum pump+(oil gratuito) turbo moleculan pump set |
Rotativo ppompaggio svelocità |
50 Hz: 16 m³/h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2m³/h (5,2 L/s) |
Molecolare ppompaggio spipì |
300 l/s |
Vuoto llimite |
5x10-5Pa |
Lavoro ppressione |
0,5-5 Pa |
Aspirazione time |
10 minuti(10-3Pa) |
Vuoto mdimensione |
Intervallo di misura dall'atmosfera a 1*10Pa |
Controllo gas |
Gas fbasso cregolatore |
Camera dimensionidimensioni |
Ï260*200mm (altezza) metale |
Magnetron tdestinazione sfonte |
Dimensione target Ï 50*3mm(Cu)/tsorgente target: weak mmagnetico ssostanza /mmateriali |
Operazione mmetodo |
Manuale di istruzionil |
Peso/dimensionedimensione |
100 kg/610 mm di lunghezza x 420 mm di larghezza x 490 mm di altezza |
Alimentazione salimentazione |
CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz |
Potenza cconsumo |
<3000W |
Raffreddamento mmetodo |
Aria craffreddamento(pump)+ water craffreddamento(sputtering tobiettivo) |
Garanzia |
Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vitat |
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Pressa a caldo Lab Hard Cr12MoV in lega 500C per la produzione di celle solari in perovskiteProssimo :
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